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蔡司高管预计中国将在15年内实现EUV光刻机自主研发
蔡司高管预计中国将在15年内实现EUV光刻机自主研发
近日，德国蔡司集团半导体业务的负责人Frank Rohmund在一次采访中透露，中国在未来的15年内或将有能力研发出EUV光刻机。他指出，这一预测是基于对当前形势的合理分析，但他也承认中国在此技术领域的进展并不容易量化。EUV光刻机是目前全球唯一由ASML公司生产的设备，该技术对制造包括英伟达AI加速器在内的尖端芯片至关重要。随着技术的重要性不断上升，拥有核心技术的企业将获得更大的话语权。目前，美国正借助这一技术优势，对中国的半导体产业施加压力，禁止ASML向中国出口EUV设备及部分高端浸润式DUV光刻机，且美国国会也在推动对所有DUV光刻机的出口管制。
针对美国实施的这些严格出口控制，Rohmund表示，如果这些措施进一步扩展到传统的DUV设备，将可能对整个行业造成消极影响。他直言不讳地表示，这些出口限制未必会产生积极成果，反而可能刺激中国更快地加快自我创新与研发。在某种程度上，这些制裁将迫使中国研发团队更加拼搏，奋发图强，推动技术的快速发展。这与ASML首席执行官的观点相吻合，均认为加强出限制将进一步加快中国自主研发替代技术的步伐。
蔡司也承认，在浸润式DUV光刻机的研发上，中国已经实现了一定的进展。根据外媒的报道，一家总部位于上海的技术公司已开始生产此类设备。Rohmund指出，中国已经在相关技术的研发上投入了数十年，因此近期的进展并不令人意外。但他同时提醒，仍需关注这些设备的实际能力，因为目前蔡司在技术上依然保持领先地位。蔡司是全球约80%的芯片所需光学元件的主要供应商，ASML在2017年曾以10亿欧元收购蔡司半导体业务的一部分股份。
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